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当社の「次世代リソグラフィ用マスク洗浄装置 ARTS」、キヤノンが開発した世界初の量産用ナノインプリント半導体製造装置の開発製造拠点へ納入決定

開示者	【65900】芝浦メカトロニクス株式会社
文書名	当社の「次世代リソグラフィ用マスク洗浄装置 ARTS」、キヤノンが開発した世界初の量産用ナノインプリント半導体製造装置の開発製造拠点へ納入決定
PDF/XBRL	[別ウインドウでPDFを開く]
開示日時	2025/05/27	チャネル/カテゴリ	東京証券取引所 /PR情報
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